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磁控溅射沉积系统JGP-450A

2017-5-23 15:03:28
磁控溅射沉积系统JGP-450A

磁控溅射沉积系统JGP-4

仪器设备介绍

性能指标:
(1)极限真空度:≤6.67×10-5 Pa(经烘烤除气后)
(2)系统真空检漏漏率:≤5.0×10-7 Pa•l/S
(3)系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.6×10-4 Pa
(4)停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa
(5)系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成

适用领域:
用于微电子领域中纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备,可供学生实验及教师科研使用。
出料与排空残液全部采用可控自动阀门,出料可计量。